在台式X射线荧光光谱仪（XRF）的设计中，探头的几何布局，即是采用“上照式”还是“下照式”，是一项关乎用户体验与应用范围的关键设计差异。这两种设计并非孰优孰劣，而是针对不同的样品类型和检测需求所提出的解决方案。上照式设计因其独特的样品适应性，在检测项目范围上展现出显著的优势。

下照式X荧光光谱仪是常见的传统设计。其X光管和探测器均位于样品腔的下方，样品检测面需朝下放置。这种设计非常适合分析液体、粉末等流动性样品，因为可以使用杯状容器盛放，样品表面能自动形成平整的液面。然而，它的主要局限性在于固体样品的制备：块状或不规则样品必须进行切割、打磨，以确保一个平整的检测面能够严密地覆盖测量窗口，任何缝隙都会导致X射线泄漏和测量误差，甚至存在安全隐患。

而上照式（或称“侧照式”）X 荧光光谱仪则完美地解决了这一痛点。其X光管和探测器位于样品腔的上方或侧上方，检测窗口朝下，样品从下方放入，检测面朝上。这种“开放式”的样品腔设计带来了无与伦比的灵活性。用户可以直接检测任何庞大、沉重、不规则或无法破坏的物体，例如一块完整的岩石、一块金属零部件、一件工艺品、一段电线或一块电路板。只需将样品台移开，把待测物直接置于检测窗口下方即可。

正是这种出色的样品适应性，直接决定了上照式X荧光光谱仪在检测项目上的独特优势。它大大地拓展了分析仪的应用场景，使其从传统的实验室制样分析走向了现场的快速筛查与无损鉴定。具体而言，其检测项目的区别体现在：

1.不规则固体样品的直接分析：这是核心的区别。在矿产勘探领域，地质学家可以直接分析钻探获取的岩芯，无需破碎打磨；在废旧金属回收行业，回收商可以快速对形状古怪的废铸件、合金阀门进行牌号鉴别和分拣；在电子产品检测中，工程师可以直接对整块主板上的焊点进行铅（Pb）含量筛查。这些项目对于下照式仪器而言，几乎无法完成或需要极其繁琐的预处理。

2.大尺寸物体的局部分析：上照式设计允许对大型物体（如大型雕塑、机械设备部件）的特定部位进行原位无损检测，这对于文物鉴定、大型设备金属成分核查等项目至关重要。

3.简化流程，提升效率：由于省去了复杂的制样过程，上照式XRF特别适合用于需要快速得出结果的质检、筛查和分类项目。它能将检测从“实验室”带入“生产线”或“仓库”，实现实时决策。

上照式与下照式的核心区别在于样品适应性。上照式设计并非在绝对检测精度上超越下照式，但其解放了样品的形态限制，从而大大地扩展了 X 荧光光谱仪的分析项目范围，使其从一种纯粹的实验室仪器，转变为一个强大的现场无损快速分析工具。